レイアウト設計後の最適化による光近接効果補正技術の提案

DOI Web Site Web Site 被引用文献1件 参考文献17件
  • 松縄 哲明
    筑波大学大学院 システム情報工学研究科
  • 野里 博和
    半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
  • 坂無 英徳
    半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
  • 村川 正宏
    半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
  • 村田 信治
    半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
  • 寺澤 恒男
    半導体MIRAIプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構
  • 田中 稔彦
    半導体MIRAIプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構
  • 須賀 治
    (株)半導体先端テクノロジーズ
  • 樋口 哲也
    筑波大学大学院 システム情報工学研究科 半導体MIRAIプロジェクト 産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

書誌事項

タイトル別名
  • Optical Proximity Correction using an Optimization Method after Layout Design
  • レイアウト セッケイ ゴ ノ サイテキカ ニ ヨル ヒカリ キンセツ コウカ ホセイ ギジュツ ノ テイアン

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抄録

This paper proposes an optical proximity correction (OPC) using an Adjustable OPCed cell and genetic algorithms (GA) to achieve optimal OPC feature generation for the full-chip area at fast processing speeds. GA is an efficient optimization technique based on population genetics. In this approach, an Adjustable OPCed cell consists of two parts. The first part is the “fixed area”, which includes OPC feature data from a conventional OPC technique. The second part is the “adjustable area”, which is located in the peripheral regions of the cell and includes adjustable OPC variables. As the values of these variables are greatly influenced by neighboring cell patterns, the variables are quickly optimized by the GA after cell layout. The effectiveness of this approach, in terms of reduced times for accurate simulations and repeated modification of OPCed features, is demonstrated through computational experiments.

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