フォトレジストへの可変干渉フェムト秒レーザー露光 Variable Interference Two-Photon Exposure to Negative Photoresist Using Infrared Femtosecond Laser

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著者

    • 常峰 啓伸 TSUNEMINE Takanobu
    • 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima
    • 早崎 芳夫 HAYASAKI Yoshio
    • 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima

収録刊行物

  • レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan  

    レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan 356, 41-45, 2006-12-11 

参考文献:  8件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018790799
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604414
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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