招待講演 SiGe系量子効果デバイス--共鳴トンネルダイオード(RTD)とGeドットアレイ技術

• 須田 良幸

• 前川 裕隆

• 佐野 嘉洋

書誌事項

タイトル別名

• ショウタイ コウエン SiGeケイ リョウシ コウカ デバイス キョウメイ トンネル ダイオード RTD ト Ge ドット アレイ ギジュツ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (520), 17-22, 2007-02

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 量子効果デバイス
• 共鳴トンネルダイオード
• 歪緩和
• Geドット
• ナノデバイス
• Quantum Effect Device
• Resonant Tunneling Diode
• Strain-Relief
• Ge Dot
• Nano Device

詳細情報

• CRID: 1520290882374852096
• NII論文ID: 110006239500
• NII論文ID: 10018855042
• NII論文ID: 110006224725
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 8677326
• NDL書誌ID: 8678703
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8677326
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8678703
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles