極端紫外域での光学素子 Optical Devices for Extreme Ultraviolet

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抄録

The cosiderable progress in the development of extreme ultraviolet (EUV) sources such as laser-produced plasma, discharge-produced plasma, high-harmonic generation, X-ray laser, Synchrotron radiation, X-ray free electron laser will create new scientific research field and new industrial technology field. These EUV sources research have also led to progress in the development of EUV optical devices such as multilayer mirrors. This paper reviews the briefly history and recent results of multilayer optics for EUV.

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 35(3), 154-161, 2007-03-15 

    The Laser Society of Japan

参考文献:  62件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018869876
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    8751148
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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