アルカリハライド表面でのフタロシアニンのエピタキシャル成長のシミュレーション

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著者

    • 星 肇
    • 東京工業大学・工学部・有機材料工学科
    • 中尾 聡
    • 東京工業大学・工学部・有機材料工学科
    • 石川 謙
    • 東京工業大学・工学部・有機材料工学科

収録刊行物

  • Molecular electronics and bioelectronics

    Molecular electronics and bioelectronics 9(3), 114-117, 1998-08-24

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018958267
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10464559
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • データ提供元
    CJP書誌 
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