MOCVD法によるIn_2O_3薄膜の作製 Preparation of In_2O_3 Thin Film by MOCVD Method

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PHS, フィジカルセンサ研究会  

    電気学会研究会資料. PHS, フィジカルセンサ研究会 2003(13), 1-4, 2003-11-28 

参考文献:  7件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018971525
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11486078
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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