シリコン/ガラス構造における Deep-RIE プロセスの開発
書誌事項
- タイトル別名
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- Development of Deep Reactive Ion Etching (Deep-RIE) Process for Bonded Silicon-Glass Structures
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収録刊行物
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- 電気学会研究会資料. PHS, フィジカルセンサ研究会
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電気学会研究会資料. PHS, フィジカルセンサ研究会 2001 (18), 7-12, 2001-12-14
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573105975190094464
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- NII論文ID
- 10018971904
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- NII書誌ID
- AA11486078
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles