A Low-Pressure Limit of Diamond Chemical-Vapor Deposition Studied by Plasma Diagnostics

• TEII K.

  Kyushu University

• HORI M.

  Nagoya University

• GOTO T.

  Nagoya University

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会

  電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2003 (87), 27-31, 2003-12-16

キーワード

• Diamond
• ICP
• radicals
• ions

詳細情報

• CRID: 1573387450166996736
• NII論文ID: 10018979745
• NII書誌ID: AA11501025
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • CiNii Articles