Plasma Properties of ICP Etching using SF_6-O_2 Gas Mixture and Their Relationship to Etching Characteristics

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  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2003(87), 63-66, 2003-12-16

参考文献:  7件中 1-7件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018979837
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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