Spatial profile control of electron density and plasma space potential and generations of high-quality diamond films in the 2.45GHz surface wave type plasma processing devices

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会  

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2003(87), 71-74, 2003-12-16 

参考文献:  3件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018979855
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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