PBII&D法によるTiN薄膜の窒素流量および印加電圧依存性 Nitrogen pressure and applied voltage dependencies of prepared TiN films using titanium cathodic arc PBII&D

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著者

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会  

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2003(1), 25-30, 2003-03-13 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018980591
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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