PBII&D法によるTiN薄膜の窒素流量および印加電圧依存性

• 行村 建

  同志社大学

• 村穂 智之

  同志社大学

書誌事項

タイトル別名

• Nitrogen pressure and applied voltage dependencies of prepared TiN films using titanium cathodic arc PBII&D

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会

  電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2003 (1), 25-30, 2003-03-13

キーワード

• プラズマイオン注入
• PBII
• PBII&D
• TiN

詳細情報

• CRID: 1571135650392601344
• NII論文ID: 10018980591
• NII書誌ID: AA11501025
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles