平板型表面波プラズマ装置の電子密度均一性向上に関する研究 Numerical Analysis on the Improvement of the Uniformity of Electron Density Profiles of the Planar Type Surface Wave Plasma Processing Device

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会  

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2001(37), 31-34, 2001-08-23 

参考文献:  7件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018981164
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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