Plasma CVD for Thin Film Formations

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著者

    • ICHIKAWA Yukimi
    • Semiconductor Core Technology Development Dept., Fuji Electric Co., Ltd.
    • SEKI Yasukazu
    • Semiconductor Core Technology Development Dept., Fuji Electric Co., Ltd.

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2001(22), 7-12, 2001-04-20

参考文献:  4件中 1-4件 を表示

  • <no title>

    YANG J.

    Proc. 26th IEEE PV Specialists Conf., 1997, 1997

    被引用文献1件

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    ICHIKAWA Y.

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    ICHIKAWA Y.

    J. Non-Cryst. Solids 198-200, 1081, 1996

    DOI 被引用文献6件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018981252
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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