Axial Profile of Charged Particles in Ar/CF_4 RF CCP Plasmas

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著者

    • OHE K.
    • Department of Systems Engineering, Nagoya Institute of Technology
    • KIMURA T.
    • Department of Systems Engineering, Nagoya Institute of Technology
    • KAGA K.
    • Department of Systems Engineering, Nagoya Institute of Technology

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会  

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2001(1), 63-66, 2001-04-19 

参考文献:  6件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018981513
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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