誘導熱プラズマによるアルミナ厚膜の減圧溶射の圧力およびガス構成依存性 Influence of Pressure and Gas kinds during Low Pressure Thermal Plasma Spraying of Al_2O_3 Thick Film using Inductively Coupled Thermal Plasma

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. ED, 放電研究会

    電気学会研究会資料. ED, 放電研究会 2003(1), 63-68, 2003-01-22

参考文献:  11件中 1-11件 を表示

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    澤崎昭

    第三世代セラミックス

    被引用文献1件

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    柳田博明

    電子材料セラミックス

    被引用文献1件

  • <no title>

    小山田了三

    ニューセラミックス

    被引用文献1件

  • <no title>

    (社) 日本鉄鋼協会 熱プラズマプロセシング研究会編

    熱プラズマ材料プロセシングの基礎と応用

    被引用文献1件

  • <no title>

    日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会編

    プラズマ材料科学ハンドブック

    被引用文献1件

  • <no title>

    JUREWICZ J.

    Proc 7th Int. Symp. Plasma. Chem Eindhoven, 1985, 1985

    被引用文献1件

  • <no title>

    竹内順

    日本金属学会誌 52, 711, 1988

    被引用文献1件

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    OKADA T.

    J. An Cream Soc., 1989

    被引用文献1件

  • The Particle-Source-In Cell (PSI-CELL) Model for Gas-Droplet Flows

    CROWE C. T.

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    被引用文献1件

  • 熱プラズマ応用CVDの基礎検討

    児島慶亨

    材料とプロセス 5, 1757, 1992

    被引用文献1件

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    PROULX P.

    Int. J. Heat Mass Transf. 28-7, 1327-1336, 1985

    被引用文献16件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018986573
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10320559
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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