誘導熱プラズマによるアルミナ厚膜の減圧溶射の圧力およびガス構成依存性 Influence of Pressure and Gas kinds during Low Pressure Thermal Plasma Spraying of Al_2O_3 Thick Film using Inductively Coupled Thermal Plasma

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著者

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. ED, 放電研究会  

    電気学会研究会資料. ED, 放電研究会 2003(1), 63-68, 2003-01-22 

参考文献:  11件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018986573
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10320559
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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