ホローカソードプラズマ源によるSiOx成膜 SiOx Thin Film Deposition by Hollow Cathode Plasma Source

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. ED, 放電研究会  

    電気学会研究会資料. ED, 放電研究会 2001(263), 55-57, 2001-12-11 

参考文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018987121
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10320559
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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