半導体検出器を用いたプラズマイオン注入における二次電子計測 Secondary Electron Measurement in Plasma Immersion Ion Implantation with Semiconductor Detecor

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  • 電気学会研究会資料. ED, 放電研究会

    電気学会研究会資料. ED, 放電研究会 2001(252), 53-58, 2001-12-10

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

  • <no title>

    KOKURA H

    Jpn J. Appl. Phys. 38, 5262, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    LIEBERMAN M A

    Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    NAKAMURA K.

    Plasma Sources Sci. Technol. 6, 86, 1997

    被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018987236
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10320559
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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