C_7F_<16>を用いたC:F膜の堆積とその評価 : ガス圧依存性および気体混合による効果 Deposition and Characterization of C:F Films Using C_7F_<16> : Effect of Material Gas Pressure and Gas Additions

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. ED, 放電研究会

    電気学会研究会資料. ED, 放電研究会 2001(111), 13-18, 2001-08-07

参考文献:  10件中 1-10件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018988389
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10320559
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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