EB直描を用いた先端デバイスの試作

• 田村 貴央

  NECエレクトロニクス

• 多田 宗弘

  NEC

• 藤井 清

  NECエレクトロニクス

• 林 喜宏

  NEC

書誌事項

タイトル別名

• Application of EB direct writing lithography on manufacturing advanced LSI devices

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会

  電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会 2003 (1), 1-5, 2003-11-28

キーワード

• 電子線
• EB
• 直描
• 部分一括
• 寸法精度
• 近接効果
• Cuダマシン配線

詳細情報

• CRID: 1573950400159362816
• NII論文ID: 10018988830
• NII書誌ID: AN00346658
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles