超臨界乾燥を用いた微細レジストパターン形成
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- 菊池 幸子
- 技術研究組合 超先端電子技術開発機構
書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of Fine Resist Patterns by using Supercritical Drying Method
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収録刊行物
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- 電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会
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電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会 2003 (1), 19-23, 2003-11-28
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1571980075322387456
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- NII論文ID
- 10018988854
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- NII書誌ID
- AN00346658
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles