次世代リソグラフィー用レジスト材料の開発状況 : EPL用ポジ型レジストの開発

• 安波 昭一郎

  富士写真フイルム

• 白川 浩司

  富士写真フイルム

• 水谷 一良

  富士写真フイルム

• 小久保 忠嘉

  富士フイルムアーチ

書誌事項

タイトル別名

• Development status of Resist Materials for Next Generation Lithography : Development of positive resist for EPL

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会

  電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会 2003 (1), 25-28, 2003-11-28

キーワード

• 電子線リソグラフィー
• EPL
• バルキーアセタール
• 感度
• 解像力
• PEB温度依存性
• エッチング耐性

詳細情報

• CRID: 1573387450205938176
• NII論文ID: 10018988866
• NII書誌ID: AN00346658
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles