フッ素レーザーレジストの開発

• 内藤 卓哉

  東芝 研究開発センター

• 斎藤 聡

  東芝 研究開発センター

• 信田 直美

  東芝 研究開発センター

• 後河内 透

  東芝 研究開発センター

書誌事項

タイトル別名

• Progress in F_2 laser resists

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会

  電気学会研究会資料. LAV, 光応用・視覚研究会 2002 (6), 29-33, 2002-11-22

キーワード

• フッ素レーザー
• レジスト
• フッ素化ポリマー
• 157nm
• 溶解パラメーター

詳細情報

• CRID: 1573387450206485248
• NII論文ID: 10018988970
• NII書誌ID: AN00346658
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles