MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発 Development of Reactive Sputtering Method Assisted by Inductively Coupled Discharge for High-Rate Deposition of Magnesium Oxide

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著者

    • 松田 良信 MATSUDA Yoshinobu
    • 長崎大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Nagasaki University
    • 田代 佳 TASHIRO Kei
    • 長崎大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Nagasaki University
    • 小山 悠 KOYAMA Yu
    • 長崎大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Nagasaki University
    • 藤山 寛 FUJIYAMA Hiroshi
    • 長崎大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Nagasaki University

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会  

    電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会 2002(19), 127-132, 2002-01-25 

参考文献:  10件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018990717
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1044178X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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