各種成膜法により作製したY_2O_3:Mn蛍光体薄膜のPL及びEL特性  [in Japanese] PL AND EL FROM Y_2O_3:Mn THIN FILMS PREPARED BY VARIOUS DEPOSITION METHODS  [in Japanese]

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Author(s)

    • 白井 徹也 SHIRAI Tetsuya
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 小林 洋平 KOBAYASHI Youhei
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 山崎 正志 YAMAZAKI Masashi
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 宮田 俊弘 MIYATA Toshihiro
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 南 内嗣 MINAMI Tadatsugu
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology

Journal

  • 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会  

    電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会 2002(1), 79-84, 2002-01-24 

References:  9

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10018990915
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN1044178X
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • Data Source
    CJP 
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