各種成膜法により作製したY_2O_3:Mn蛍光体薄膜のPL及びEL特性 PL AND EL FROM Y_2O_3:Mn THIN FILMS PREPARED BY VARIOUS DEPOSITION METHODS

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著者

    • 白井 徹也 SHIRAI Tetsuya
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 小林 洋平 KOBAYASHI Youhei
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 山崎 正志 YAMAZAKI Masashi
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 宮田 俊弘 MIYATA Toshihiro
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology
    • 南 内嗣 MINAMI Tadatsugu
    • O.E. デバイスシステムR&Dセンター、金沢工業大学 O.E. Device System R&D center, Kanazawa Institute of Technology

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会  

    電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会 2002(1), 79-84, 2002-01-24 

参考文献:  9件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018990915
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1044178X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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