走査型アトムプローブによる電子源材料の原子レベルでの解析 Atomic Level Analysis of Electron Sources by the Scanning Atom Probe

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著者

    • 西川 治 NISHIKAWA Osamu
    • 金沢工業大学 工学部 物質応用工学科 Dept. of Materials Science and Engineering, Kanazawa Institute of Technology
    • 柳生 貴也 YAGYU Takaya
    • 金沢工業大学 工学部 物質応用工学科 Dept. of Materials Science and Engineering, Kanazawa Institute of Technology
    • 村上 智 MURAKAMI Tomo
    • 金沢工業大学 工学部 物質応用工学科 Dept. of Materials Science and Engineering, Kanazawa Institute of Technology
    • 皆藤 孝 KAITO Takashi
    • セイコーインスツルメント株式会社 科学機器事業部 Scientific Instruments Division, Seiko Instruments Inc.
    • 近藤 昌子 KONDO Shoko
    • 株式会社東レリサーチセンター 表面科学研究部 Surface Science Division Toray Research Center

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会  

    電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会 2001(140), 7-14, 2001-12-14 

参考文献:  19件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018990990
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1044178X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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