走査型アトムプローブによる電子源材料の原子レベルでの解析  [in Japanese] Atomic Level Analysis of Electron Sources by the Scanning Atom Probe  [in Japanese]

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Author(s)

    • 西川 治 NISHIKAWA Osamu
    • 金沢工業大学 工学部 物質応用工学科 Dept. of Materials Science and Engineering, Kanazawa Institute of Technology
    • 柳生 貴也 YAGYU Takaya
    • 金沢工業大学 工学部 物質応用工学科 Dept. of Materials Science and Engineering, Kanazawa Institute of Technology
    • 村上 智 MURAKAMI Tomo
    • 金沢工業大学 工学部 物質応用工学科 Dept. of Materials Science and Engineering, Kanazawa Institute of Technology
    • 皆藤 孝 KAITO Takashi
    • セイコーインスツルメント株式会社 科学機器事業部 Scientific Instruments Division, Seiko Instruments Inc.
    • 近藤 昌子 KONDO Shoko
    • 株式会社東レリサーチセンター 表面科学研究部 Surface Science Division Toray Research Center

Journal

  • 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会  

    電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会 2001(140), 7-14, 2001-12-14 

References:  19

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10018990990
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN1044178X
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • Data Source
    CJP 
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