高周波マグネトロンスパッタリングによる遷移金属窒化物・炭化物薄膜の作製と冷陰極材料としての評価  [in Japanese] Preparation of thin films of transition metal nitrides and carbides by rf magnetron sputtering and their evaluation as a cold cathode  [in Japanese]

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Author(s)

    • 後藤 康仁 GOTOH Yasuhito
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
    • 紀和 伸政 KIWA Nobumasa
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
    • 辻 博司 TSUJI Hiroshi
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
    • 石川 順三 ISHIKAWA Junzo
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

Journal

  • 電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会  

    電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会 2001(140), 45-50, 2001-12-14 

References:  16

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10018991065
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN1044178X
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • Data Source
    CJP 
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