SiGeBiCMOS技術における熱処理トレードオフおよびボロンスパイク効果低減の検討

  • 橋本 隆介
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部
  • 佐藤 文彦
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部
  • 青山 亨
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部
  • 鈴木 久満
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部
  • 吉田 宏
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部
  • 藤井 宏基
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部
  • 山崎 亨
    日本電気株式会社 先端デバイス開発本部

書誌事項

タイトル別名
  • A 73GHz f_T 0.18μm RF-SiGe BiCMOS Technology considering Thermal Budget Trade-off and with reduced Boron-spike Effect on HBT Characteristics

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1571417125342844032
  • NII論文ID
    10018991931
  • NII書誌ID
    AN1044178X
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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