Role of Sheath in Silicon Trench Etching

• YAJIMA Ayako

  Fuji Electric Advanced Technology Co. Ltd.

• WAKIMOTO Setsuko

  Fuji Electric Advanced Technology Co. Ltd.

• FUJIKAKE Shinji

  Fuji Electric Advanced Technology Co. Ltd.

• ICHIKAWA Yukimi

  Fuji Electric Device Technology Co. Ltd.

• MATSUMURA Shosaku

  Musashi Institute of Technology

• 望月 邦雄

  Fuji Electric Advanced Technology Co. Ltd.

Bibliographic Information

Other Title

• シリコントレンチエッチングにおけるシースの役割

Journal

• 電気学会研究会資料. PPT, パルスパワー研究会

  電気学会研究会資料. PPT, パルスパワー研究会 2006 (1), 47-51, 2006-02-06

Keywords

• etching rate
• Langmuir-probe measurements
• discharge source power
• aperture ratio

Details

• CRID: 1573105975344751104
• NII Article ID: 10020523041
• NII Book ID: AA11404459
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • CiNii Articles