クラスター制御プラズマCVDによるa-Si:H薄膜堆積 Deposition of a-Si:H films using cluster-controlled plasma CVD

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著者

    • 白谷 正治 SHIRATANI Masaharu
    • 九州大学大学院システム情報科学研究院 Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
    • 古閑 一憲 KOGA Kazunori
    • 九州大学大学院システム情報科学研究院 Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 77(2), 155-159, 2008-02-10

    応用物理学会

参考文献:  16件中 1-16件 を表示

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被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

キーワード

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021108570
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    9370713
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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