微結晶シリコン薄膜の表面評価と成長モデル

• 外山 利彦

  大阪大学大学院 基礎工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Growth kinetics of microcrystalline silicon thin films elucidated from fractal structures on growing surface
• ビケッショウ シリコン ハクマク ノ ヒョウメン ヒョウカ ト セイチョウ モデル

抄録

低コストで高性能な薄膜シリコン太陽電池の開発には，高品質な微結晶シリコン薄膜の成長過程の解明が欠かせない．本稿では，原子間力顕微鏡を用いて薄膜表面の成長に伴う表面粗さの変化を測定し，成長表面上のフラクタル構造をスケーリング解析した結果をもとに，成長過程について概説する．低コスト化に有用な高速製膜技術を用いて製膜を行い，太陽電池としても高効率を示した微結晶シリコン薄膜における成長表面での実験結果を中心に，シミュレーション結果を交えて，成長モデルを説明する．さらに，p型化のためのB₂H₆ 添加を施した微結晶シリコン薄膜の成長過程についても言及する．

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 77 (7), 823-826, 2008-07-10

  公益社団法人 応用物理学会

キーワード

• thin film
• solar cell
• microcrystalline silicon
• growth kinetics
• atomic force microscope
• surface roughening
• fractal
• scaling

詳細情報

• CRID: 1390001277357251712
• NII論文ID: 10021109472
• NII書誌ID: AN00026679
• DOI: 10.11470/oubutsu.77.7_823
• ISSN: 21882290
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 9571287
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9571287
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可