先端半導体CMOSデバイス製造における空調技術の課題と動向

• 清田 久晴

• 服部 毅

書誌事項

タイトル別名

• センタン ハンドウタイ CMOS デバイス セイゾウ ニ オケル クウチョウ ギジュツ ノ カダイ ト ドウコウ
• 特集 産業空調の最新事情
• トクシュウ サンギョウ クウチョウ ノ サイシン ジジョウ

収録刊行物

• 空気調和・衛生工学

  空気調和・衛生工学 81 (11), 999-1004, 2007-11

  東京 : 空気調和・衛生工学会

キーワード

• CMOSデバイス
• CMOS Device
• クリーン化
• Ultra Clean Technology
• パーティクル
• Particle
• メタル汚染
• Metal Contamination
• 分子汚染制御
• Molecule Contamination Control
• リソグラフィ
• Lithography
• ミニエン
• Mini-Environment
• FOUP
• Front Opening Unified Pod

詳細情報

• CRID: 1520290883204426496
• NII論文ID: 10021114033
• NII書誌ID: AN00065681
• ISSN: 03864081
• NDL書誌ID: 9267699
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9267699
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN1(科学技術--建設工学・建設業)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles