イオンビーム照射ポリフッ化ビニリデン薄膜のエッチング挙動 : エッチング前処理・照射イオン効果の検討 Etching Behavior of Poly (vinylidene fluoride) Thin Films Irradiated with Ion Beams : Effect of Irradiated Ions and Pretreatment

この論文をさがす

著者

    • 八巻 徹也 YAMAKI Tetsuya
    • (独)日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 Quantum Beam Science Directorate, Japan Atomic Energy Agency
    • Rohani Rosiah ROHANI Rosiah
    • (独)日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 Quantum Beam Science Directorate, Japan Atomic Energy Agency
    • 高橋 周一 TAKAHASHI Shuichi
    • (独)日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 Quantum Beam Science Directorate, Japan Atomic Energy Agency
    • 長谷川 伸 HASEGAWA Shin
    • (独)日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 Quantum Beam Science Directorate, Japan Atomic Energy Agency
    • 浅野 雅春 ASANO Masaharu
    • (独)日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 Quantum Beam Science Directorate, Japan Atomic Energy Agency
    • VOSS Kay-Obbe
    • Materials Research Department, Gesellschaft fur Schwerionenforschung mbH (GSI)
    • NEUMANN Reinhard
    • Materials Research Department, Gesellschaft fur Schwerionenforschung mbH (GSI)
    • 前川 康成 MAEKAWA Yasunari
    • (独)日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 Quantum Beam Science Directorate, Japan Atomic Energy Agency

収録刊行物

  • 高分子論文集  

    高分子論文集 65(3), 273-276, 2008-03-25 

    高分子学会

参考文献:  12件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  1件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021120290
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    9437736
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
ページトップへ