ナフサ/酢酸二相系中でのナフサの過酸化水素によるタングストリン酸触媒酸化脱硫

  • 矢津 一正
    (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門
  • 佐藤 信也
    (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門
  • 杉本 義一
    (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門
  • 松村 明光
    (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門
  • 斎藤 郁夫
    (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門

書誌事項

タイトル別名
  • Tungstophosphoric Acid-catalyzed Oxidative Desulfurization of Naphtha with Hydrogen Peroxide in Naphtha/Acetic Acid Biphasic System

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抄録

12-タングストリン酸(TPA)触媒存在下におけるH2O2によるナフサの酸化脱硫について検討した。用いたすべての有機硫黄化合物は,酢酸中においてH2O2-TPA触媒により効率的に酸化された。酸化反応性の順序は,スルフィド類,ジスルフィド類>ベンゾチオフェン類>チオフェン類であった。ベンゾチオフェン類およびチオフェン類のメチル置換基は硫黄原子の反応性を増大した。有機硫黄化合物類の主酸化生成物は,若干のチオフェン類を除いて,相当するスルホン類であった。オクタン/酢酸二相系中において,オクタン中の有機硫黄化合物はH2O2-TPA触媒により同様に酸化された。酸化反応は酢酸相中で進行し,酸化生成物のほとんどがそこに留まることにより,オクタン相からの硫黄化合物の連続的な除去が達成された。ナフサ中の硫黄分はこの酸化的処理により効果的に削減され,シリカゲル吸着処理後の硫黄分は約0.5 mass ppmまで低減された。水素化脱硫はナフサの酸化脱硫の前処理として効果的であり,硫黄分は0.1 mass ppm以下まで低減された。

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参考文献 (29)*注記

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