オフセット印刷インキモデル系として用いた疎水性高分子基質中の水の運動性評価 Mobility of Water in a Hydrophobic Polymeric Matrix as a Model System for an Offset Printing Ink

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著者

    • 岩田 和憲 IWATA Kazunori
    • 東京工業大学大学院 理工学研究科 物質科学専攻 Department of Chemistry and Materials Science, Tokyo Institute of Technology
    • 黒木 重樹 KUROKI Shigeki
    • 東京工業大学大学院 理工学研究科 物質科学専攻 Department of Chemistry and Materials Science, Tokyo Institute of Technology
    • 佐藤 満 SATOH Mitsuru
    • 東京工業大学大学院 理工学研究科 物質科学専攻 Department of Chemistry and Materials Science, Tokyo Institute of Technology

収録刊行物

  • 繊維学会誌

    繊維学会誌 64(7), 187-198, 2008-07-10

    繊維学会

参考文献:  9件中 1-9件 を表示

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    関田吉泰

    高分子と水分, 1972

    被引用文献1件

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    関田吉泰

    高分子と水分, 1972

    被引用文献1件

  • <no title>

    古澤邦夫

    新しい分散 乳化の科学と応用技術の新展開, 2006

    被引用文献1件

  • <no title>

    KAMIGUCHI K.

    Polymer 46, 11470, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    PRICE W. S.

    Ann. Rep. NMR 32, 53, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    WANG J. H.

    J. Am. Chem. Soc. 73, 510, 1951

    被引用文献1件

  • <no title>

    荒川泓

    水 水溶液系の構造と物性, 1989

    被引用文献1件

  • <no title>

    ORAKDOGEN N.

    Polymer 47, 561, 2006

    被引用文献1件

  • <no title>

    YAMANE Y.

    Macromolecules 36, 5655, 2003

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021127290
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00131651
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    00379875
  • NDL 記事登録ID
    9588367
  • NDL 雑誌分類
    ZP33(科学技術--繊維工学・工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-189
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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