MOSトランジスタ

• 渡部 平司

  大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

書誌事項

タイトル別名

• MOS Transistor
• MOSトランジスタ--ゲート絶縁膜形成技術の進展と今後の展開
• MOS トランジスタ ゲート ゼツエンマク ケイセイ ギジュツ ノ シンテン ト コンゴ ノ テンカイ
• —ゲート絶縁膜形成技術の進展と今後の展開—

抄録

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収録刊行物

• 電気学会誌

  電気学会誌 128 (3), 154-156, 2008

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• MOSFET
• 高誘電率ゲート絶縁膜
• メタル電極
• 真空一貫プロセス

詳細情報

• CRID: 1390001204994728448
• NII論文ID: 10021128863
• NII書誌ID: AN10432927
• DOI: 10.1541/ieejjournal.128.154
• ISSN: 18814190
• ISSN: 13405551
• NDL書誌ID: 9396444
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9396444
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejjournal/128/3/128_3_154/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可