半導体用高速熱処理用ゾーンコントロール誘導加熱装置 A Zone-Control Induction Heating (ZCIH) System for Semiconductor Processing

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

抄録

This paper proposes a new induction heating technology capable of controlling a precise exothermic distribution, which is named as "zone-control induction heating (ZCIH)." The ZCIH system consists of two or more sets of a high-frequency inverter unit and a work coil. The inverter units control the phase angle of the coil current to be in phase with each other. The ZCIH has capability of operation with the mutual inductance, and enables to locate the coils as close as possible. As a result, the ZCIH technology makes it possible to achieve rapid heating performance with extremely precise exothermic distribution. This paper presents experimental results of a 150-kW six-zone ZCIH system for semiconductor heat processing.

収録刊行物

  • 電気学会論文誌. D, 産業応用部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. D, A publication of Industry Applications Society  

    電気学会論文誌. D, 産業応用部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. D, A publication of Industry Applications Society 128(3), 296-302, 2008-03-01 

    The Institute of Electrical Engineers of Japan

参考文献:  8件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  8件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021133682
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10012320
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09136339
  • NDL 記事登録ID
    9401400
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-1608
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
ページトップへ