32nm世代用CMP装置--CoO/CoCベスト

• 辻村 学

Bibliographic Information

Other Title

• 32nm セダイヨウ CMP ソウチ CoO CoC ベスト
• CoO/CoC best CMP for 32 nm device
• 特集 研磨装置の進展と今後の展開
• トクシュウ ケンマ ソウチ ノ シンテン ト コンゴ ノ テンカイ

Journal

• Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology

  Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology 52 (3), 138-141, 2008-03

  東京 : 砥粒加工学会

Keywords

• CMP
• 32 nm device
• CoO
• CoC
• BC2
• reliability

Details

• CRID: 1520009407381500800
• NII Article ID: 10021136509
• NII Book ID: AN10192823
• ISSN: 09142703
• NDL BIB ID: 9396676
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9396676
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN11(科学技術--機械工学・工業)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles