プラズマイオンプロセスシミュレーション Simulation Studies on Plasma Ion Processes

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抄録

  Recent trend in simulation studies will be reviewed briefly in the field of plasma ion processes. In plasma ion processes, materials to be processed are immersed in a plasma. Since the sheath potential structure around the material surface is one of the key parameters governing the ion processes, emphasis will be put on the dynamics of transient ion sheath after a negative voltage is applied to the materials to be processed. After describing the concept of ion sheath, a one-dimensional model for ion sheath evolution is discussed. Both analytic and numerical models will then be introduced for more complicated realistic situations. Finally, a simulation model for plasma source, which will become one of the most important topics in control of plasma parameters for ion processes, will be discussed.<br>

収録刊行物

  • 真空  

    真空 51(2), 93-98, 2008-02-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  19件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021156793
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    18822398
  • NDL 記事登録ID
    9411236
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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