高周波マグネトロンスパッタリング法におけるＰｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３膜のターゲット依存性

• 吉田 大一郎

  鳥取県産業技術センター 鳥取大学

• 西 崇宏

  鳥取大学

• 岸田 悟

  鳥取大学

書誌事項

タイトル別名

• Dependence on the Kind of Target of Pb(Zr,Ti)O₃ Films in Radio Frequency Magnetron Sputtering
• コウシュウハ マグネトロン スパッタリングホウ ニ オケル Pb Zr Ti O3 マク ノ ターゲット イソンセイ

抄録

  We deposited Pb(Zr,Ti)O₃ (PZT) films on MgO(100) substrates at 440°C with sinter or powder target and investigated the effects of films of targets on the PZT film growth. The PZT films with (101)-orientation where they hardly included impurity phases were deposited by the use of the sinter target. The composition of the film was approximately a stoichiometry, and the growth rate deposited with the sinter targets was higher than that with the powder targets.<br>

収録刊行物

• Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ

  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ 51 (3), 118-120, 2008

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Spectroscopy
• Surfaces and Interfaces
• Instrumentation
• General Materials Science

詳細情報

• CRID: 1390001205295463680
• NII論文ID: 10021156846
• NII書誌ID: AA12298652
• DOI: 10.3131/jvsj2.51.118
• ISSN: 18824749
• ISSN: 18822398
• NDL書誌ID: 9471314
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9471314
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可