反応性スパッタ法による酸化ビスマス薄膜の堆積とレーザー照射による光学特性変化 Preparation of BiO_x Films by Reactive RF Magnetron Sputtering and the Optical Response to Laser Irradiation

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 上村 隆久 KAMIMURA Takahisa
    • 東海大学大学院工学研究科電気電子システム工学専攻 Graduate School of Engineering, Course of Electrical and Electronics System, Tokai University
    • 沖村 邦雄 OKIMURA Kunio
    • 東海大学大学院工学研究科電気電子システム工学専攻 Graduate School of Engineering, Course of Electrical and Electronics System, Tokai University
    • 村田 吉正 [他] MURATA Yoshimasa
    • 東海大学大学院工学研究科電気電子システム工学専攻 Graduate School of Engineering, Course of Electrical and Electronics System, Tokai University

抄録

  BiO<sub>x</sub> films were prepared on the glass and polycarbonate substrates by reactive rf magnetron sputtering using Bi target with the aim of application to optical recording. It was found from XRD patterns and XPS spectra that both metallic Bi and Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub> crystalline phases coexist in the deposited film under conditions with proper O<sub>2</sub> flow. XPS spectra after annealing showed the enhancement of spacial phase separation into Bi and Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub> phases. Reflectivity enhancement of BiO<sub>x</sub> films on the glass and polycarbonate substrates after annealing revealed optical recording ability for blue laser irradiation. Prepared disk with film under proper sputtering condition achieved CNR of 45.7 dB for 405 nm laser irradiation with power of 3 mW.<br>

収録刊行物

  • 真空  

    真空 51(3), 192-194, 2008-03-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  5件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021157036
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    18822398
  • NDL 記事登録ID
    9471544
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ