金属/高誘電率絶縁膜ゲートスタックの光電子分光分析 Photoemission Study of metal/high-k Dielectric Gate Stack

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著者

    • 宮崎 誠一 MIYAZAKI Seiichi
    • 広島大学大学院先端物質科学研究科 Department of Semiconductor Electronics and Integration Science Graduate School of Advanced Sciences of Matter, Hiroshima University

収録刊行物

  • 表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan  

    表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan 29(2), 84-91, 2008-02-10 

    日本表面科学会

参考文献:  28件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021165454
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    9379517
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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