低濃度塩水溶液に紫外線照射・磁気を処理した後のヒドロキシルラジカル生成と殺菌効果について

• 岩沢 篤郎

• 高橋 法子

• 中村 良子

書誌事項

タイトル別名

• テイノウド エン スイヨウエキ ニ シガイセン ショウシャ ジキ オ ショリシタ アト ノ ヒドロキシル ラジカル セイセイ ト サッキン コウカ ニ ツイテ
• Hydroxyl radical generation and bactericidal effects in salt solutions of low concentration after ultraviolet irradiation and magnetic treatment

抄録

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌

収録刊行物

• 防菌防黴 : 日本防菌防黴学会誌

  防菌防黴 : 日本防菌防黴学会誌 36 (5), 285-291, 2008

  大阪 : 日本防菌防黴学会

キーワード

• Bactericidal effects
• 殺菌効果
• pH
• Magnetic treatment
• 磁気処理
• Ultraviolet irradiation
• 紫外線照射
• Hydroxyl radical
• ヒドロキシルラジカル
• Saline water
• 塩の水溶液

詳細情報

• CRID: 1520290885040741632
• NII論文ID: 10021183391
• NII書誌ID: AN00224774
• ISSN: 03855201
• NDL書誌ID: 9514243
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9514243
• Web Site: https://search.jamas.or.jp/link/ui/2008211117
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZR5(科学技術--生物学--菌類・微生物)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles