最先端の表面・界面評価技術　　高分解能ＲＢＳを用いた表面・界面の評価

• 中嶋 薫

  京都大学 大学院工学研究科

• 木村 健二

  京都大学 大学院工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Characterization of Surfaces and Interfaces by High-resolution RBS
• 高分解能RBSを用いた表面・界面の評価
• コウ ブンカイノウ RBS オ モチイタ ヒョウメン カイメン ノ ヒョウカ

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 59 (12), 882-886, 2008

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• High-k Gate Dielectric
• Silicon Oxide
• Depth Profile
• Strain
• High-Resolution RBS

詳細情報

• CRID: 1390282679093696384
• NII論文ID: 10024408637
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.59.882
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD1cXhsFSltr%2FO
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 9742334
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9742334
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles