パルスイオンビーム蒸着法によるSi基板上のビアホールへのW埋込み

• 猿渡 文人

  長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター

• 北山 伸二

  長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター

• 末松 久幸

  長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター

• 江 偉華

  長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター

• 八井 浄

  長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター

書誌事項

タイトル別名

• Deposition of W Plugging into Via-Holes on Si Substrate by Pulsed Ion-Beam Evaporation

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. PPT, パルスパワー研究会

  電気学会研究会資料. PPT, パルスパワー研究会 2002 (11), 27-29, 2002-03-15

キーワード

• パルスイオンビーム蒸着法
• 薄膜
• ビアホール
• LSI

詳細情報

• CRID: 1570009750767863552
• NII論文ID: 10024739092
• NII書誌ID: AA11404459
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles