水素・アルゴン混合パルスプラズマによるスズ薄膜のエッチングに関する研究
書誌事項
- タイトル別名
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- Study of Plasma Etching by Pulsed Discharge Plasma with Hydrogen and Argon Mixed Gases for Tin Thin Film
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収録刊行物
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- 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会
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電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2008 (45), 15-20, 2008-07-05
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573668925682807552
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- NII論文ID
- 10025666951
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- NII書誌ID
- AA11501025
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles