単結晶SiC基板の紫外光支援研磨特性における粒子の影響

• 山口 桂司

• 峠 睦

• 久保田 章亀

書誌事項

タイトル別名

• タンケッショウ SiC キバン ノ シガイコウ シエン ケンマ トクセイ ニ オケル リュウシ ノ エイキョウ
• Effect of particles on UV-polishing characteristics of single crystal SiC substrate

収録刊行物

• Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology

  Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology 55 (4), 220-225, 2011-04

  東京 : 砥粒加工学会

キーワード

• SiC
• ultraprecision machining
• ultraviolet-ray irradiation
• atomic force microscopy
• AFM
• scanning electron microscope
• SEM
• transmission electron microscope
• TEM

詳細情報

• CRID: 1520853832664787712
• NII論文ID: 10027989801
• NII書誌ID: AN10192823
• ISSN: 09142703
• NDL書誌ID: 11062335
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I11062335
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN11(科学技術--機械工学・工業)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles