O<sub>2</sub>およびAr雰囲気での水上パルス放電におけるフェノール分解過程

DOI Web Site Web Site BIBCODE 被引用文献2件 参考文献15件
  • 塩田 晴基
    室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻
  • 板橋 秀幸
    室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻
  • 佐藤 孝紀
    室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻 室蘭工業大学 環境科学・防災研究センター
  • 伊藤 秀範
    室蘭工業大学大学院 工学研究科 情報電子工学系専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Phenol Decomposition Process by Pulsed-discharge Plasma above a Water Surface in Oxygen and Argon Atmosphere
  • O₂およびAr雰囲気での水上パルス放電におけるフェノール分解過程
  • O ₂ オヨビ Ar フンイキ デ ノ スイジョウ パルス ホウデン ニ オケル フェノール ブンカイ カテイ

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抄録

By-products from phenol by the exposure of pulsed-discharge plasma above a phenol aqueous solution are investigated by gas chromatography mass spectrometry, and the decomposition process of phenol is deduced. When Ar is used as a background gas, catechol, hydroquinone and 4-hydroxy-2-cyclohexene-1-on are produced, and no O3 is detected; therefore, active species such as OH, O, HO2, H2O2, which are produced from H2O in the discharge, can convert phenol into those by-products. When O2 is used as a background gas, formic acid, maleic acid, succinic acid and 4,6-dihydroxy-2,4-hexadienoic acid are produced in addition to catechol and hydroquinone. O3 is produced in the discharge plasma, so that phenol is probably decomposed into 4,6-dihydroxy-2,4-hexadienoic acid by 1,3-dipolar addition reaction with O3, and then 4,6-dihydroxy-2,4-hexadienoic acid can be decomposed into formic acid, maleic acid and succinic acid by 1,3-dipolar addition reaction with O3.

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被引用文献 (2)*注記

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参考文献 (15)*注記

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