薄膜形状記憶合金のハイスループット評価法

• 青野 祐子

  東京工業大学大学院 理工学研究科 機械物理工学専攻

• 川口 龍太郎

  東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 メカノマイクロ工学専攻

• 桜井 淳平

  東京エレクトロン（株）

• 秦 誠一

  名古屋大学大学院 工学研究科 マイクロ・ナノシステム工学専攻

書誌事項

タイトル別名

• High-Throughput Characterization of Thin Film Shape Memory Alloys
• ハクマク ケイジョウ キオク ゴウキン ノ ハイスループット ヒョウカホウ

抄録

Thin film shape memory alloys (SMAs) are promising materials for micro-machines because of their high-output power, large strain, and actuation without high voltage. To search for compositions of suitable thin film SMAs for each application, combinatorial technique is useful tool, however the technique requires high-throughput characterization method for thermal property which is an important property of thin film SMAs such as two way martensitic transformation temperature and thermal hysteresis. In this paper, novel high-throughput characterization method for such properties using thermography is proposed and demonstrated. Compositionally integrated thin film SMA samples (TiNiPd) with only 1mm² of each area are characterized at once. The difference of martensitic and reverse martensitic transformation temperature against those temperatures measured by a conventional method, differential scanning calorimetry, is about 5K.

収録刊行物

• 電気学会論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌）

  電気学会論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌） 133 (8), 348-353, 2013

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• 薄膜形状記憶合金
• コンビナトリアル手法
• ハイスループット評価

詳細情報

• CRID: 1390282679437527936
• NII論文ID: 10031189072
• NII書誌ID: AN1052634X
• DOI: 10.1541/ieejsmas.133.348
• ISSN: 13475525
• ISSN: 13418939
• NDL書誌ID: 024846520
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I024846520
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/133/8/133_348/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可