3a-A-16 MOS反転層における表面イオン散乱とアンダーソン局在

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  • CRID
    1390282681122478464
  • NII論文ID
    110002013873
  • DOI
    10.11316/jpsgaiyok.1984.2.0_181_1
  • ISSN
    2433118X
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles

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